SK海力士中国籍员工盗取晶片技术给华为被送法办(图)
韩联社报导,韩国晶片大厂SK海力士(SK Hynix)的一名中国籍女性员工A某,4月底因涉嫌向中国华为泄露有关降低晶片不良率的核心技术资料被捕,且被检方起诉,目前正接受法院审理。
韩国京畿道南部地方警察厅产业技术安全侦查队今天表示,现年30多岁的A某涉嫌违反韩国「防止产业技术泄露及保护法」,在被捕且遭起诉后,全案正由水原地方法院骊州分院审理。
根据报导,A某于2013年进入SK海力士,之后一直在专责不良晶片分析的部门工作,并于2020至2022年在SK海力士中国分公司担任组长,负责企业交易客户洽谈。但在2022年6月A某返回韩国后,就立即跳槽到华为。
韩国晶片大厂SK海力士(SK Hynix)的一名中国籍女性员工A某,4月底因涉嫌向中国华为泄露有关降低晶片不良率的核心技术资料被捕,且被检方起诉,目前正接受法院审理。路透社
据调查,A某离职前,曾用3000多张A4纸列印出涉及核心半导体工序问题解决方案的资料。而SK海力士禁止员工使用随身碟相关设备,且对文件列印内容、列印人、文件用途等资讯进行详细记录和管理。
报导指出,A某当时留下了列印文件的记录,但用途并未被SK海力士掌握。韩国警方认为,A某将列印的纸张分批转移至外部,但A某矢口否认涉及相关嫌疑行径。
上述事件发生后,韩国警方接获SK海力士报案,对A某的涉案情节展开严密调查,并于4月间A某入境韩国时,在机场将她逮捕。